시스템 반도체 분야 연구개발 및 생산시설 확충을 위해 삼성전자가 2030년까지 133조 원을 투자하기로 했다.
또한 전문인력 1만 5천명을 채용한다.
삼성전자는 24일, 이같은 투자 및 채용 내용을 담은 '반도체 비전 2030'을 발표하고 "2030년까지 메모리 반도체 뿐만 아니라 시스템 반도체 분야에서도 글로벌 1위를 달성하겠다"고 밝혔다.
이를 위해 삼성전자는 "시스템 반도체 인프라와 기술력을 공유해 팹리스(Fabless, 반도체 설계 전문업체), 디자인하우스(Design House, 설계 서비스 기업) 등 국내 시스템 반도체 생태계의 경쟁력을 강화할 방침"이라고 설명했다.
구체적으로 삼성전자는 시스템 반도체 사업경쟁력 강화를 위해 2030년까지 국내 R&D 분야에 73조 원, 최첨단 생산 인프라에 60조 원 등 총 133조 원을 투자한다.
특히 삼성전자는 향후 화성캠퍼스 신규 EUV라인을 활용해 생산량을 증대하고, 국내 신규 라인 투자도 지속 추진할 계획이다.
또한 기술경쟁력 강화를 위해서 시스템 반도체 R&D 및 제조 전문인력 1만 5천명을 채용할 예정이다.
삼성전자의 이 같은 계획이 실행되면 2030년까지 연평균 11조 원의 R&D 및 시설투자가 집행되고, 생산량이 증가함에 따라 42만명의 간접 고용유발 효과가 발생할 것으로 예상된다.
김선호 기자
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